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18117546256
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Adresse
408, Gebäude E, 26 Zhokang Road, Pudong New District, Shanghai
Shanghai Spektrum Optoelektrik Co., Ltd.
qgao@buybm.com
18117546256
408, Gebäude E, 26 Zhokang Road, Pudong New District, Shanghai
Produkteigenschaften
Berührungslos, zerstörungsfreies Messkopf, das frei in das Kundensystem integriert werden kann
● Auch Anfänger können einfach die Modellierung der Anfänger-Analyse-Muster auflösen
● Hohe Präzision, hohe Reproduzierbarkeit Messung der absoluten Reflexivität im UV-bis nahen Infrarot-Bereich, kann mehrschichtige Filmdicke, optische Konstante (n: Brechungsgrad, k: Lichtdämpfungskoeffizient) analysieren
● Einzelpunkt-Fokussierung in 1 Sekunde
● Breites optisches System unter Differenzlicht (UV ~ Nahinfrarot)
● Unabhängiger Testkopf für eine Vielzahl von Inline-Anpassungsanforderungen
● Mindesten entsprechenden Spot ca. 3 μm
● Kann für ultradünne Filme analysiert werden
Messprojekte
Absolute Reflexivitätsanalyse
Multi-Schicht-Analyse (50 Schichten)
Optische Konstante (n: Brechungsgrad, k: Lichtdämpfungskoeffizient)
Transparente Substratproben wie Membran oder Glas können nicht richtig gemessen werden, wenn sie durch die Reflexion im Inneren des Substrats beeinflusst werden. Die OPTM-Serie verwendet Objektive, die die inneren Reflexionen physisch entfernen und sogar transparente Substrate mit hoher Präzision messen können. Darüber hinaus können Proben wie Membrane oder SiC mit optischer Anoversität ohne deren Einfluss die oberen Membrane separat gemessen werden.
(Zhuanli Nr. 5172203)
Anwendungsbereich
● Halbleiter, Komposithalbleiter: Siliziumhalbleiter, Siliziumcarbid-Halbleiter, Galliumaransid-Halbleiter, Photogravur, dielektrische Konstante
FPD: LCD, TFT, OLED (organischer EL)
● Datenspeicher: DVD, Magnetkopffilm, Magnetmaterial
Optische Materialien: Filter, Anti-Reflexfolie
● Flachbildschirm: Flüssigkristallbildschirm, Dünnfilmtransistor, OLED
● Film: AR-Film, HC-Film, PET-Film usw.
Sonstiges: Baustoffe, Klebstoffe, DLC usw.
Spezifikationsmuster
(Automatische XY-Plattform)
| OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
|---|---|---|---|
| Wellenlängenbereich | 230 bis 800 nm | 360 bis 1100 nm | 900 bis 1600 nm |
| Membrandickenbereich | 1 nm bis 35 μm | 7nm bis 49μm | 16 nm bis 92 μm |
| Messzeit | 1 Sekunde / 1 Uhr | ||
| Größe des Lichtdurchmessers | 10 μm (mindestens ca. 3 μm) | ||
| Lichtsensoren | CCD | InGaAs | |
| Lichtquelle Spezifikationen | Deuterium + Halogenlampe | Halogenlampe | |
| Größe | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (Hauptteil der automatischen XY-Plattform) | ||
| Gewicht | 66 kg (Hauptteil der automatischen XY-Plattform) | ||
OPTM Auswahl
Automatische XY-Plattform
Fester Rahmen
Einbettungskopf
Wellenlängen- und Membrandickenbereich

Auswahltabellen
| Wellenlängenbereich | Automatische XY-Plattform | Fester Rahmen | Einbettungskopf |
| 230 bis 800nm | OPTM-A1 | OPTM-F1 | OPTM-H1 |
| 360 bis 1.100nm | OPTM-A2 | OPTM-F2 | OPTM-H2 |
| 900 bis 1600nm | OPTM-A3 | OPTM-F3 | OPTM-H3 |
Objektive
| Typ | Vergrößerungsfaktor | Lichtflecken messen | Sichtbereich |
| Reflexion gegen Objekte | 10x Objektiv | Φ 20 μm | Φ 800μm |
| 20x Objektiv | Φ 10 μm | Φ 400 μm | |
| 40x Objektiv | Φ 5 μm | Φ 200 μm | |
| Sichtbarer Brechungstyp | 5x Objektiv | Φ 40 μm | Φ 1.600μm |
Messfall
Halbleiterindustrie – Fälle zur Messung von SiO2 und SiN

Im Halbleiterprozess wird SiO2 als Isolationsfilm verwendet, während SiN als Isolationsfilm verwendet wird, der eine höhere dielektrische Konstante als SiO2 hat, oder als Blockierungsschutz verwendet wird, wenn CMP SiO2 entfernt. Wenn die Eigenschaften der Isolationsfolien auf diese Weise verwendet werden, ist es notwendig, diese Foliendicke zu messen, um eine genaue Prozesssteuerung zu ermöglichen.
FPD-Industrie – Messung der Dicke der farbigen Lichtwiderstandsfolie


Im Prozess des Farbfilterfilms wird in der Regel der Farbwiderstand auf die gesamte Glasoberfläche beschichtet und das gewünschte Muster durch die Lichtgravur zur Belichtung hinterlassen. RGB-Dreifarbigkeit schließt diesen Prozess ab.
Die unkonsistente Dicke des Farbblichtwiderstands ist die Ursache für die Verformung des RGB-Musters und die Farbfehlung des Farbfilters, daher ist es sehr wichtig, die Filmdicke des Farbblichtwiderstands zu verwalten.
FPD-Industrie – Analyse von ITO-Konstruktionen im Neigungsmodus


ITO-Membran ist ein transparentes Elektrodematerial, das von Flüssigkristallplatten verwendet wird, und nach der Herstellung der Membran muss eine Ausbrennbehandlung (Wärmebehandlung) durchgeführt werden, um die Leitfähigkeit und die Lichtdurchlässigkeit zu verbessern. Zu diesem Zeitpunkt ändern sich der Sauerstoffzustand und die Kristallinität, wodurch sich die Membrandicke stufenweise verändert. Optisch gesehen kann es nicht als eine einheitliche Schichtmembran betrachtet werden.
Bei einem solchen ITO wird der Neigungsmodus durch den nk-Wert der oberen und unteren Schnittstelle gemessen.
Halbleiterindustrie – Messung der Membrandicke auf rauem Substrat mit Schnittstellenkoeffizienten


Wenn die Substratoberfläche nicht spiegelt und sehr rau ist, wird das Messlicht aufgrund der Streuung reduziert und die gemessene Reflexivität ist niedriger als der tatsächliche Wert.
Durch den Einsatz des Schnittstellenkoeffizienten kann die Membrandicke des Films auf dem Substrat gemessen werden, da die Verringerung der Reflexivität auf der Substratoberfläche berücksichtigt wird.
DLC-Beschichtungsindustrie – Messung von DLC-Beschichtungsdicken für verschiedene Anwendungen

DLC (diamantähnliche) Beschichtungen werden aufgrund ihrer hohen Härte, niedrigen Reibungskoeffizienten, Verschleißbeständigkeit, elektrischer Isolierung, hoher Barrierebeständigkeit, Oberflächenmodifikation und der Affinität zu anderen Materialien für verschiedene Anwendungen weit verbreitet.
Mit einem mikrooptischen System können geformte Proben gemessen werden. Darüber hinaus kann der Monitor zur Analyse der Ursachen von Anomalien verwendet werden, indem er die Methode bestätigt, wie die Messung durchgeführt wird, während der Messplatz geprüft wird.