Integrierte Schaltkreise für ultrareines Wasser

Bei der Wasserqualität von ultrareinem Wasser in großen integrierten Schaltungen sind die Wasserqualitätsindikatoren, die Priorität erhalten: Widerstandsverhältnis, TOC、 Silizium, Partikel, Schwermetalle, gelöster Sauerstoff, Alkalimetalle usw. Diese Substanzen werden in Wasser gelöst, und je mehr Ionenbestandteile in der Wasserqualität verwendet werden, desto größer ist der Einfluss auf den Herstellungsprozess des Produkts, so dass die Produktleistung verringert wird.

Ultrareine Wassergeräte für integrierte Schaltkreise werden häufig für die Reinigung von industriellen Halbleiterrohstoffen und verwendeten Geräten, die Herstellung von photogravierten Maskenplatten und Wasserdampfquellen für die Oxidation von Siliziumfliechen verwendet. Darüber hinaus sind die Herstellung von Vakuumrohren, Dickfilm- und Dünnfilm-Schaltungen, Festkörperelektronik, gedruckte Schaltungen usw. auch mit ultrareinem Wasser erforderlich. Mit der kontinuierlichen Entwicklung der Wissenschaft und Technologie wird die Integration von integrierten Schaltungen immer größer und die Anforderungen an die Wasserqualität steigen, so dass die Nachhaltigkeit von ultrareinen Wasserbehandlungsprozessen und -produkten, die Kontinuität der Produktion, die Automatisierung von Geräten und die Einfachheit strengere Anforderungen stellen.

Prozess:

Rohwasser → Rohwasser Druckpumpe → Multimedia-Filter → Aktivkohlefilter → Weichwasser → Präzisionsfilter → Yin-Harz-Filterbett → Yin-Harz-Filterbett → Yin-Harz-Mischbett → Mikroporenfilter → Wasserpunkt
Rohwasser → Rohwasser-Druckpumpe → Multimedia-Filter → Aktivkohlefilter → Weichwasser → Präzisionsfilter → Reverse Osmose der ersten Stufe → pH-Regelung → Zwischenwasserbehälter → Reverse Osmose der zweiten Stufe (Reverse Osmose-Membranoberfläche mit positiver Ladung) → Reinigungswasserbehälter → Reinwasserpumpe → Mikroporenfilter → Wasserpunkt
Rohwasser → Rohwasser Druckpumpe → Multimediumfilter → Aktivkohlefilter → Weichwasserfilter → Präzisionsfilter → 1. Stufe Reverse Osmose Maschine → Zwischenwassertank → Zwischenwasserpumpe → EDI-System → Mikroporenfilter → Wasserpunkt

Infiltration reines Wasser für die aktuelle integrierte Schaltung mit ultrareinem Wasser-Gerät mit fortgeschrittenen vollautomatischen doppelstufigen Reverse Osmose + EDI Elektroentfernung Salz + Polieren Mischbett Behandlung Technologie, in der Vorbehandlung Teil unterstützt mit Reverse Osmose Behandlung, kann effektiv entfernen verschiedene Salze und Verunreinigungen im Wasser, sofort mit EDI Elektroentfernung Salz und Polieren Mischbett Technologie, kann effektiv lösliche Ionen der Wasserqualität zu entfernen, die weitere Verbesserung der Ausgangswasserqualität, so dass die endgültige Ausgangswasserqualität die Anforderungen des Wasserprozesses zu erreichen.

Eigenschaften:

1. Einführung der importierten Druckpumpe, hohe Geräuscheneffizienz, stabile und zuverlässige
2. Vollautomatisches elektronisches Steuerprogramm, auch optional mit Touchscreen-Bedienung, einfach zu bedienen.
3. Verwenden Sie ein vollautomatisches Vorbehandlungssystem, um den unbemannten Betrieb zu erreichen und die Wartungskosten zu reduzieren.
4. Importierte Reverse Osmose-Membran, hohe Entsalzungsrate, lange Lebensdauer und niedrige Betriebskosten.
5. individuelles Design, das der lokalen Wasserqualität entspricht, um die Bedürfnisse vollständig zu erfüllen.
6. Online-Wasserqualitätsüberwachung, Echtzeitüberwachung der Wasserqualitätsänderungen und Gewährleistung der Wasserqualitätssicherheit.
7. Einsparung von erneuertem Wasser und erneuerten Abwasserbehandlungsanlagen, hohe Wasserproduktivität (bis zu 95%).
8. Keine Säure-Alkali-Reserven und Säure-Alkali-Verdünnungs-Transporteinrichtungen erforderlich, die Verwendung ist sicher und zuverlässig, um den Kontakt der Arbeiter mit Säure und Alkali zu vermeiden.
Vereinfachen Sie den Installationsprozess und reduzieren Sie die Fläche.

Anwendungsbereiche:

1. Halbleitermaterialien, Geräte, Leiterplatten und integrierte Schaltungen, Halbfertige Produkte mit ultrareinem Wasser.
In der Transistorproduktion wird hauptsächlich Siliziumflatten gereinigt, andere kleine Mengen werden für die Herstellung von Medikamenten verwendet.
3, Halbleitermaterial, Herstellung, Verarbeitung und Reinigung von Kristallmaterialien.
4, hochreines Wasser in der Produktion von integrierten Schaltungen reinigen Siliziumflatten.
5, Elektronenröhrenherstellung, Elektronenröhrenkathode mit Carbonat-Dosierung.
Optoelektronische Produkte und andere High-Tech-Produkte.
7, Bildrohr und Kathodenstrahlrohr Produktion, Zutaten mit reinem Wasser.
8, Elektrolysekondensatoren produzieren Aluminiumfolie und die Reinigung von Werkstücken.