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Suzhou Huavina Nanotechnologie Co., Ltd.
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HWN-L Nanolaser Direktschreibsystem

VerhandlungsfähigAktualisieren am12/18
Modell
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Hersteller
Produktkategorie
Ursprungsort
Übersicht
Das HWN-L-Nano-Laser-Direktschreibsystem ist ein Laser-Direktschreibsystem mit großer Fläche, hoher Präzision, gravierbarer, hyperdiffraktiver Grenzbearbeitung, das für die große Flächenbearbeitung von Wafer-Größen verwendet werden kann. Es eignet sich für eine Vielzahl von Mikronanostrukturen und -geräten, kleine Mengen von Mikronanogeräten usw. Die Serie umfasst verschiedene Modelle wie L50 und L100, die leistungsstarke Funktionen, einfache Wartung, hohe Bearbeitungsauflösung, Unterstützung für mehrere Schreibmuster und Unterstützung für mehrere Rezeptormaterialien bieten. Das System behält ausreichend physischen Raum und Hardwareressourcen zu Beginn des Designs zur Verfügung, um den Bedarf an späteren Funktionsupgrades zu erfüllen, um den Produktlebenszyklus zu verlängern.
Produktdetails

HWN-L Nanolaser DirektschreibsystemSpezialisiert sich auf Forschung und Entwicklung von Wafer-Größen und Kleinserienproduktion

HWN-L Nanolaser DirektschreibsystemEs ist ein großflächiges, hochpräzises, gravierbares, ultradiffraktives Grenzbearbeitungslasersystem, das für die große Flächenbearbeitung von Wafer-Größen verwendet werden kann. Es eignet sich für eine Vielzahl von Mikronanostrukturen und -geräten, kleine Mengen von Mikronanogeräten usw. Die Serie umfasst verschiedene Modelle wie L50 und L100, die leistungsstarke Funktionen, einfache Wartung, hohe Bearbeitungsauflösung, Unterstützung für mehrere Schreibmuster und Unterstützung für mehrere Rezeptormaterialien bieten. Darüber hinaus behält das System zu Beginn des Designs ausreichend physischen Raum und Hardwareressourcen zur Verfügung, um die Nachfrage nach nachfolgenden Funktionsupgrades zu erfüllen, die eine längere Lebensdauer des Produkts ermöglichen.

Suzhou Huavina Nanotechnologie Co., Ltd. wurde im Jahr 2011 registriert und ist ein innovatives Hightech-Unternehmen, das sich hauptsächlich mit der Forschung, Entwicklung und Industrialisierung neuer Nanolithographie-Technologien und maskenloser Nanolithographie beschäftigt.