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Shanghai Sunhua Technologie Co., Ltd.
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Ausrüstung für die Gasdruckbereitung von Siliziumnitrid-Keramikplatten

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Übersicht

Verwendungen und Merkmale der Gasdruckvorbereitungsausrüstung für Siliziumnitrid-Keramik-Substrate: $ r $ n Luftdrucksinterung von Siliziumnitrid-Keramik-Substraten. $r$n(1) Horizontale Struktur, bestehend aus Ofenkörper, Heizung, Vakuumsystem, Atmosphärenkontrollsystem usw. Das Gehäusematerial des Ofens besteht aus 16MnR-Druckbehälterstahl oder 304-Edelstahl. $ r $ n (3) Heizkörper mit isostatischem Druckgraphit, Isolationsschicht mit Graphitfilz, Kohlenstoff-tiefen Faserverbundmaterial usw. hergestellt. $r$n(4) ist mit einem importierten Hochdruckgasmassenflussmesser ausgestattet, um ein stabiles Sintern in einer dynamischen Prozessatmosphäre zu erreichen.

Produktdetails

Ausrüstung für die Gasdruckbereitung von Siliziumnitrid-KeramikplattenVerwendung und Merkmale:

Luftdrucksinterung von Siliziumnitrid-Keramik-Substraten.

(1) Horizontale Struktur, bestehend aus Ofenkörper, Heizung, Vakuumsystem, Atmosphärenkontrollsystem usw.

(2) Gehäusematerial aus 16MnR Druckbehälterstahl oder 304 Edelstahl.

(3) Heizkörper mit statischem Druckgraphit, Isolationsschicht mit Graphitfilz, Kohlenstoff-Kohlenstoff-tiefen Faserverbundmaterial usw.

(4) Ausgestattet mit importiertem Hochdruckgasmassenflussmesser, um ein stabiles Sintern unter dynamischer Prozessatmosphäre zu erreichen.

(5) Infrarot-Technologie zur präzisen Kontrolle der Ofentemperatur unter Hochdruckatmosphäre, spezielle Infrarot-Blasstruktur, die eine langfristige stabile Sinterung bei einer Maximaltemperatur von 2100 ° C (nicht mehr als 2 MPa) gewährleistet.

Die wichtigsten Spezifikationen von Siliziumnitrid-Keramik-Substrat-Gas-Präparationsgeräten:

Konstruktionstemperatur 2100 ℃, Vakuum Pa, Ladegebiet Größe (Länge und Breite): 400 × 250 × 250mm, 500 × 450 × 450mm, 1250 × 500 × 500mm, 1400 × 600 × 600mm