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Jiangsu Weilinco Biotechnologie Co., Ltd.
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Fokussiertes Röntgen-optoelektronisches Spektrometer

VerhandlungsfähigAktualisieren am01/08
Modell
Natur des Herstellers
Hersteller
Produktkategorie
Ursprungsort
Übersicht
XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy), Auch bekannt als ESCA (Elektronenspektroskopie für chemische Analyse), ist eine Methode der Oberflächenanalyse, die die von der Oberfläche emittierten Photoelektronen erkennt, um die Zusammensetzung von Oberflächenelementen und chemische Zustandsinformationen zu erhalten. XPS ermöglicht qualitative und quantitative Analysen der Elementzusammensetzung und ermöglicht eine räumliche Auflösung auf Mikrometerstufe durch Mikrofokusscanntechnologie.
Produktdetails

Das PHI Genesis 500 ist eine neue Generation mit vollautomatischem, multifunktionalen Scan-Fokus-Röntgen-Optoelektronik-Spektrum, einfach bedienbarem, multifunktionalem Optionszubehör, das eine vollautomatische Probentransfer und -parkierung ermöglicht, sowie einer leistungsstarken, großflächigen und mikrozonalen XPS-Analyse für eine schnelle und präzise Tiefenanalyse, die vielseitige Lösungen für Batterien, Halbleiter, organische Geräte und andere Bereiche bietet.

Einfach zu bedienen

PHI GENESIS bietet eine völlig neue Benutzererfahrung mit leistungsstarken, vollautomatisierten und einfach bedienbaren Geräten.

Die Bedienungsoberfläche ermöglicht die Einstellung regulärer und erweiterter multifunktionaler Testparameter auf demselben Bildschirm, während Funktionen wie die Probenavigation und die genaue Positionierung von SXI-Sekundärbildgeräten beibehalten werden.

聚焦X射线光电子能谱仪

Einfache und benutzerfreundliche Oberfläche


Multifunktionales Zubehör

Die multifunktionale, automatisierte Analyse vor Ort umfasst die gesamte Palette von Technologien, von LEIPS-Testleitungen bis zur HAXPES-Kernenergieebene-Anregung, und PHI GENESIS bietet im Vergleich zu herkömmlichen XPS einen guten Leistungswert.

聚焦X射线光电子能谱仪


Ausgezeichnete Lösungen:

Hochleistungs-XPS, UPS, LEIPS, REELS, AES, GCIB und eine Vielzahl weiterer optionaler Zubehör für alle Anforderungen der Oberflächenanalyse.

聚焦X射线光电子能谱仪


Großflächliche Analyse von mehreren Proben

Die fertige Probe wird automatisch in die Analysekammer transportiert

Drei Proben können gleichzeitig verwendet werden

Große Proben von 80mm x 80mm können in einer Vielzahl von Proben platziert werden

Analyse einer Vielzahl von Proben wie Pulver, raue Oberflächen, Isolatoren, Form-Komplexitäten usw.


Standard-Probenhalter 40mm x 40mm ⼤ Probenhalter 80mm x 80mm

聚焦X射线光电子能谱仪 聚焦X射线光电子能谱仪


Mikrozonale Röntgenstrahlen mit Fokussierung von ≤ 5 μm

In PHI GENESIS kann eine fokussierte Scan-Röntgenquelle ein Sekundärelektronenbild (SXI) anregen, das Navigation, genaue Positionierung, gleichzeitige Analysetests mit mehreren Punkten und mehreren Regionen sowie eine Tiefenanalyse ermöglicht.

聚焦X射线光电子能谱仪


Schnelle Tiefenanalyse

PHI GENESIS ermöglicht eine leistungsstarke Tiefenanalyse. Fokussierte Röntgenquellen, hochempfindliche Detektoren, leistungsstarke Argon-Ionengeräte und ein leistungsstarkes Doppelstrahlneutralisierungssystem ermöglichen eine vollautomatische Tiefenanalyse, einschließlich der gleichzeitigen Analyse mehrerer Punkte in derselben Spritzgraviergrube.

聚焦X射线光电子能谱仪 聚焦X射线光电子能谱仪


Winkelauflösung XPS-Analyse

Die hochempfindliche Mikrozonenanalyse und die hochreproduzierbare Neutralisierungsleistung des PHI GENESIS XPS gewährleisten die Leistung der Analyse der Probenwinkelresolution. Darüber hinaus ermöglicht die Kombination von Neigung und Drehung der Probe eine hohe Auflösung für Winkel und eine hohe Auflösung für Energie.

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Anwendungsbereich

Es wird hauptsächlich in den Bereichen Batterien, Halbleiter, Photovoltaik, neue Energien, organische Geräte, Nanopartikel, Katalysatoren, Metallmaterialien, Polymere, Keramik und andere Feststoffe und Geräte verwendet.

Funktionsmaterialien, die in den Bereichen vollständig feste Batterien, Halbleiter, Photovoltaik und Katalysatoren verwendet werden, sind komplexe, mehrkomponente Materialien, deren Entwicklung von der ständigen Optimierung der chemischen Struktur bis zur Leistung abhängt. Das neue Oberflächenanalyseinstrument „PHI GENESIS“ von ULVAC-PHI, Inc. ist ein vollautomatisches, multifunktionales, fokussiertes Scan-Röntgen-optoelektronisches Spektrometer mit Leistung, hoher Automatisierung und flexibler Skalierbarkeit, das alle analytischen Anforderungen seiner Kunden erfüllt.


Multifunktionales Zubehör

UPS UV-Elektronenspektrometer, LEIPS Low Energy Reflection Electronic Energy Spectrum, AES/SAM Oschie-Elektronenspektrometer, REELS Reflex Energy Loss Spectrum, Dual-Anode-Röntgenquelle (Mg/Zr, Mg/Al), Ar-GCIB Argon Cluster Ionenquelle, Ar-GCIB Cluster Größenmessgerät, C60 Cluster Ionenquelle (20KV), Proben-Heizkühlmodul, 4-Kontakte-Heizkühlmodul, Proben-Schutz-Transportmodul, SPS Proben-Positionierungssystem und vieles mehr.


Diagramm

聚焦X射线光电子能谱仪


Installationsanforderungen

聚焦X射线光电子能谱仪