Inländische manuelle Hochtemperatur Vakuumsonde Wafer-Detektion Luftempfindlichkeit-Test

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Inländische manuelle Hochtemperatur-Vakuumsonde Wafer-Inspektion-Gasempfindlichkeit-Test, kann die Schnittstelle für die Installation von elektronischen Ventilen und Durchflussmessern reserviert werden, um andere Gase zu verwenden, Temperaturbereich von 77,15 K bis 673,15 K (-196 Grad Celsius bis 400 Grad Celsius)

Produktdetails

Inländische manuelle Hochtemperatur Vakuumsonde Wafer-Detektion Luftempfindlichkeit-Test

Das Hoch- und Kryotemperatur-Sondensystem kann bei ≤10Pa ohne Kondensation oder Gefrieren geprüft werden. Für Anwender, die sich für eine Einstiegskonfiguration entschieden haben, können Sie das Zielvakuumgehalt mit einer bipolaren mechanischen Rotationspumpe erreichen, wodurch das Konfigurationsbudget der Anlage reduziert wird. Für Anwender mit höheren Anforderungen an Vakuum können Sie das System mit einer Molekularpumpe pumpen. Tieftemperatursondensysteme bis zu 10^-3Pa. Für die Erfüllung der Prüfanforderungen sind auch Pumpen mit höherem Vakuumgehalt erhältlich.

Um die Schwingungen der Pumpengruppe zu reduzieren, haben wir auch speziell für den Anwender Isolatoren entwickelt.Erddämpfung der Schwingungen, die beim Arbeiten der Pumpensatz erzeugt werden, um die Stabilität des Systems zu gewährleisten und die Drift der Sonde zu reduzieren.

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Inländische manuelle Hochtemperatur Vakuumsonde Wafer-Detektion Luftempfindlichkeit-Test‍

Vakuumkammer
Typ	Hochtemperaturraumtemperatur bis400℃	Hoch- und Tieftemperatur Raumtemperatur400℃ Raumtemperatur-196℃
Hohlraummaterial	304rostfreier Stahl 6061Aluminiumlegierung Optional
Innere Größe	127mmX57mmX20mm
Außengröße	150mmX80mmX32mm
Gehäusegewicht	Edelstahlmaterial ungefähr1,5 kg Aluminiumlegierungsmaterial ungefähr0,5 kg
Größe der Fenster auf der Kammer	Φ42 mm(Optional mit Konvolutionsfenster zur Verringerung des Abstands zwischen Fenster und Probe)
Kammerpumpe	KF16Flansch (andere Schnittstellenspezifikationen können übertragen werden)
Kammervakuummessmündung	KF16Flansch (andere Schnittstellenspezifikationen können übertragen werden)
Kammerlufteingang	6 mmSchnecken Sie! oder 6 mmStecken Sie es ein!
Methode der Kammerkühlung	Kammerwasserkühlung+Luftkühlung
Kammer Wasserkühlung Schnittstelle
Positiver Kammerdruck	≤0,05 MPa
Kammervakuumgehalt	Mechanische Pumpe ≤5Pa（5Minuten) Molekularpumpe ≤5E-3Pa（30Minuten)
Probentesch
Mustermaterial	rostfreier Stahl Silber Kupferlegierung Reines Silber	Silber Kupferlegierung Reines Silber
Probengröße	26x26mm
Musterbeizung	Widerstandsbeheizung	Widerstandsbeheizung Flüssiger Stickstoff Kühlung
Probentesch-Fenster Entfernung	11 mm(Optional mit Konvolutionsfenster zur Verringerung des Abstands zwischen Fenster und Probe)6 mm）
Probentemperatursensor	PT100Typ Wärmewiderstand
Probentemperatur	Raumtemperatur400℃	Raumtemperatur bis 400℃ Raumtemperatur-196℃
Probentemperaturfehler	±0.5℃
Wärmegeschwindigkeit der Probe	Hohe Temperatur100℃/ Minuten Niedrige Temperatur7℃/ Minuten
Thermometer
Temperaturanzeige	7Zoll-Maschinen-Schnittstelle
Typ der Temperaturregelung	StandardPIDTemperaturregelung+Selbstregulierung
Temperaturauflösung	0.1℃
Temperaturpräzision	±0.5℃
Temperatursignaleingangstyp	PT100(Optional)K S BTyp Thermoelement)
Temperatursteuerung Ausgang	Gleichstrom lineare Stromheizung	Gleichstrom lineare Stromheizung+Flüssiger Stickstoff-Durchflussregler
Hilfsfunktionen	Erfassung und Export von Temperaturdaten Echtzeit-Temperaturkurve+Historische Temperaturkurve Erweiterbare Vakuumlesungsschnittstelle
Größe des Thermostats	32cmX170cmX380cm
Temperaturreglergewicht	ungefähr5,6 kg
Sonde
Elektrosignalanschlüsse	VerkabelungBNCVerbindungen BNCDrei-Axialverbindungen SMAVerbindungen Bananenstecker Linienlänge1.2Reis
Elektrische Leistung	Isolationswiderstand ≥4000MΩ Medien Druckbeständigkeit ≤200 V Stromräusch ≤10pA
Anzahl der Sonden	4Sonde (erweiterbar)5Sonden)
Sondenmaterial	Vergoldete Wolfram Nadel (Weitere Materialien optional)
Sondenspitze	10μm
Manuelle Sondenbewegungsplattform
XAchsenbewegung	20 mm±10 mm(Manuelle Bewegung erforderlich)
XGenauigkeit der Achssteuerung	≥500μm
RAchsenbewegung	120°±60°(Die Sonde muss manuell gedreht werden)
RGenauigkeit der Achssteuerung	≥500μm
ZAchsenbewegung	2mm±1 mm
ZGenauigkeit der Achssteuerung	≤50 μm(Manuelle Gewindeeinstellung)

Inländische manuelle Hochtemperatur Vakuumsonde Wafer-Detektion

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