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Beijing Anheng Test Technology Co., Ltd.
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AXIUS DI Wasserreinigungssystem Siemens SW2100DI

VerhandlungsfähigAktualisieren am05/21
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Übersicht

AXIUS DI Wasserreinigungssystem

Produktdetails

AXIUS DI Wasserreinigungssystem

  • Ausgang des Grundsystems nach ASTM Klasse I Reinwasser
  • Reinwasserwiderstände von bis zu 18,2 Megaohm mit einem Durchfluss von weniger als 1,8 lpm
  • Niedriger Betriebsräusch
  • Das System ist mit einer Anzeige ausgestattet, die anzeigt, wann eine Wartung erforderlich ist und wann ein Filter ausgetauscht werden muss.
  • RS232-Schnittstelle zum Datendownload
  • Kompaktes Design spart Platz

https://watertest.com.cn/products/html/ULTRAPURE_WATER_SYSTEMS/SW2100DI.html

AXIUSDI AbteilungAllgemeine Spezifikationen

Wasserproduktion l/min Weniger als 1,8
Leitfähigkeit bei 25 °C μS/cm 0.055
Widerstandsraten MΩ-cm 18.2
Gesamtorganischer Kohlenstoff (TOC) ppb <10
Bakterien cfu/ml <1
Innere Toxine EU/ml -----
Partikel größer als 0,2 um pro ml <1
Siliziumdioxid (SiO2) ppb <1

Wasserversorgungsparameter

Wasserversorgungsdruck Bar (psi) 0.01-6 (0.15-90)
Leitfähigkeit der Wasserversorgung μS/cm <20
Gesamtorganischer Kohlenstoff (TOC) ppb <50
Siliziumdioxid (SiO2) ppm 2
Kohlendioxid (CO2) ppm 30
Temperatur °C 25. Januar
Versandgewicht: kg (Pfund) 24 (52.9)
Stromversorgung V/Hz 100- 240/ 50-60
Größe Millimeter (mm) 530 x 340 x 320
  英寸 (Zoll) 20,9 x 13,4 x 12,6
Die Wasserversorgung des Systems muss entweder deionisiertes Wasser, reverse osmosis oder destilliertes Wasser sein.

Bestellungsinformationen

Produktbeschreibung Katalognummer
AXIUS DI Basis-Wassersystem für Laborklasse Der SW2100DI
Verbrauchsmaterial  
Feinabarbeitung von Polierfiltern LP2170
Deionisierfilter LP2160
Reinigungsfilter (für Low Anorganic Material) (optional) LP2171
Bakterienentfernungsfilter (400 cm2) – desinfiziert, 0,2 m 3/pk LP2064-3
Desinfektionsgerät 3/pk Der LS2055
UV-Ersatzlampe (für Systeme ohne TOC) LP2068
Druckregler (für Wasserversorgungsdrucke über 30 psi (2 bar)) Der LS2066
Beim Kauf des Systems ist ein Verbrauchsmaterial enthalten.

Anwendungsbereich
Reinigung von Glasgeräten, Puffervorbereitung, Reinigungsmittelvorbereitung, Partikelabsorption, ICP-ES