KLA Optisches ProfilmesserBei der Messung der ultradünnen Foliendicke von Perovskit-Batterien bis zur Herstellung von Halbleitern ist es mit seiner hohen Präzision, berührungslosen Messung und Vielseitigkeit ein wichtiges Werkzeug, spezifische Anwendungen sind wie folgt:

I. Messung der ultradünnen Filmdicke in Perovskit-Solarzellen

TCO-Schichtmessung:

Wichtigkeit: Die TCO-Schicht ist ein wichtiger Bestandteil von Perovskit-Solarzellen und muss eine hohe Lichtdurchlässigkeit, einen geringen Widerstand und eine hohe thermische Stabilität bei guter Leitfähigkeit aufweisen.

Messbeispiele: Mit dem KLA Optical Profiler können die Dicken von IZO-Folien auf Glas, wie Proben mit 6,8 nm und 37,1 nm, genau gemessen werden.

ETL-Schichtmessungen:

Wichtigkeit: Die ETL-Schicht spielt in Perovskit-Solarzellen eine entscheidende Rolle, Elektronen zu sammeln, Elektronen zu übertragen und Löcher zu blockieren, um die Elektronenkomplexität der Löcher zu verringern. Seine Gleichheit und Gleichheit beeinflussen direkt die Qualität der Perovskitschicht.

Messbeispiele: Das KLA Optical Profiler kann die Dicke von SnO2-Filmen auf Glas messen, wie Proben von 10,2 nm, 14,3 nm und 19,6 nm, um die Dicke und Gleichmäßigkeit der ETL-Schicht zu überwachen.

Messung der Metallelektrodenschicht:

Wichtigkeit: Die Metallelektrodenschicht ist die oberste Schicht der Perovskit-Solarzellen und die Kontrolle ihrer Prozessdicke und -gleichmäßigkeit ist entscheidend für die Senkung von Kosten und die Verbesserung der Batterieleistung.

Messbeispiele: Mit dem KLA Optical Profiler können die Dicken von Metall-Aluminium-Folien auf Glas wie Proben von 15,0 nm, 28,0 nm, 49,8 nm und 71,1 nm gemessen werden.

Messung der ultradünnen Foliendicke bei der Halbleiterherstellung

Hohe Präzision und Wiederholbarkeit:

Optische Profilmesser von KLA wie Zeta-20 mit ZDot ™ Technologie zur Realisierung von 3D-Profil + Echtfarb-Scan durch Bit-Array-Kofokussierung, mit einer Z-Achsoplösung auf Sub-Nano-Ebene. Diese hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit erfüllen die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie an die Messung der Membrandicke.

Berührungslose Messung:

Die optischen Profilmesser von KLA verwenden eine berührungsfreie Messmethode, um Schäden und Fehler zu vermeiden, die durch die berührungsfreie Messung verursacht werden können. Dies ist besonders wichtig bei zerbrechlichen Filmstrukturen in der Halbleiterherstellung.

Vielseitigkeit:

Das optische Profilmesser von KLA verfügt nicht nur über die Funktion zur Messung der Membrandicke, sondern kann auch Brechungsgrad, Reflexionsgrad und Durchlässigkeit messen, um eine Vielzahl von Messanforderungen zu erfüllen. Zum Beispiel unterstützt das optische Profiler Zeta-20 Stufenmessungen von Nano bis Millimeter und zeichnet eine Verteilung der Dünnfilmdicke auf der Probe ab, um die Gleichmäßigkeit der Probe zu bestimmen.

Einfache Bedienung und Wartung:

　　Optisches Profilmesser von KLAIn der Regel mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche und automatisierten Messfunktionen, einfach zu bedienen und zu warten. Dadurch wird der Betrieb schwieriger und die Messeffizienz verbessert.