Im Folgenden finden Sie eine detaillierte Beschreibung der Verwendung des Doppelwinkelverdampfungssystems:

1. Einstellung und Steuerung der Kernparameter

Doppel-Neigungs-Synergie-Regulierungsmechanismus

Eine Verdampfungsstufe: Mit einem kleinen Winkel (5°-20°), um die Neigungsrichtung des Flüssigkristallmolekulars zu erreichen, muss der Verdampfungsstrahl und der Unterlagen-Klemmwinkel genau gesteuert werden, um sicherzustellen, dass die Molekülachse entlang der Verdampfungsrichtung angeordnet ist.

Sekundäre Verdampfungsstufe: Nach einer Drehung der Substrate um 90° wird eine flache Orientierung mit einem größeren Winkel (20°-45°) gebildet. Dieser Prozess erfordert die gleichzeitige Anpassung der Neigung beider Achsen, um eine Ungleichheit der Vorneigung durch eine Winkelabweichung zu vermeiden.

Dynamischer Kompensationsalgorithmus: Integrierte Echtzeit-Winkelsensor-Feedback für große Flächenbeschichtungen, Korrektur des mechanischen Drifts durch PID-Steuerung, um eine Winkelgenauigkeit von ± 0,5 ° zu gewährleisten.

Temperatur- und Vakuumregelung

Segmentierte Erwärmstrategie: Die Anfangsphase mit niedriger Geschwindigkeit verdampft (< 100 ℃) adsorbierten Wasserdampf entfernt, die Hauptverdampfungsphase steigt auf den Siedepunkt des Materials ± 5 ℃ und kühlt nach dem Ende auf unter dem Schmelzpunkt, um die Wiedervereinigung zu verhindern.

Vakuumgradientenmanagement: Vorbehandlung Vakuum Grad ≤ 5 × 10-4 Torr Entgasung, Verdampfungsphase Aufrechterhaltung 10-6-10-7 Torr zu reduzieren Kollisionsstreuung, in Kombination mit Helium-Massenspektrometer Echtzeit-Überwachung der Leckage Rate.

Standardisierung der Betriebsprozesse

Substratbeladung und Positionierung

Mit magnetischer Adsorption der festen Substrate, in Verbindung mit dem Laserinterferometer, kalibrieren Sie die Ebene (Fehler < 2 μm). Die Oberflächenbasis muss mit speziellen Befestigungen mit einem Krümmungsradius von ≥ 50 mm übereinstimmen, um Spannungsverformungen zu vermeiden.

Mehrstufige Verdampfung

Vorreinigung: Das Plasma bombardiert die Oberfläche der Substrate für 5 Minuten und reduziert den Kontaktwinkel auf < 10 ° zur Verbesserung der Haftung.

Doppelachsverbindungsverdampfung: Die erste Schicht SiO₂ wird schräg mit einer Geschwindigkeit von 8Å/s verdampft (θ1 = 70°), wodurch ein Vorneigungswinkel von 5°-35° erzeugt wird; Die Metallelektrode der zweiten Schicht verdampft nach Drehung des Substrats bei θ₂ = 60 ° und bildet eine TN-Box-Molekülanordnung.

In-situ-Ausbrennen: Nach der Verdampfung startet das Temperaturmodul sofort und kühlt mit einer Geschwindigkeit von 5 ° C / min auf Raumtemperatur ab, wodurch die Restspannung freigesetzt wird.

III. Lösungen für häufige Probleme

Optimierung der Gleichmäßigkeit

Schatteneffekt-Unterdrückung: Verwenden Sie die Gaussische Krümmungsverdampfungsquelle (K> 0), um die Randabscheidungsrate um 30% zu erhöhen, um die durch die herkömmliche Flachquelle verursachte zentrale dünne Randdicke zu kompensieren.

Kompensation der Planetenbewegungen: Das Verhältnis zwischen Drehzahl und Drehzahl wird auf 3:1 eingestellt, um den "Kometschwanz"-ähnlichen Streifen zu beseitigen.

Schnelle Fehlerdiagnose

Membran-Riss-Alarm: sofort die Verdampfung unterbrechen, den Erdungswiderstand der Platte überprüfen (normalerweise sollte <1Ω) und die Reaktionszeit für das Öffnen und Schließen der Blende (≤0,2s).

Verringerung des Vakuumgrades: Nachfolgend prüfen Sie den Kompressionsvolumen des Dichtrings (empfohlene Shore-Härte 70 ± 5), den Schließraum des Türventils (< 0,1 mm), um atmosphärische Anti-Diffusion auszuschließen.

4. Wartungsvorschriften

Tägliche Wartung

Täglich mit einem staubfreien Tuch in Ethanol tauchen, um die Rückstände in der Kammer zu reinigen, wobei der Schwerpunkt auf das Abdeckungsstück Kohlenstoff3 liegt.

Wechseln Sie das Pumpenöl wöchentlich und erfassen Sie die Vakuum-Wiederherstellungszeit (Standard ≤ 30 min bis 5 x 10-4 Torr).

Periodische Kalibrierung

Vierteljährliche Wartung: Kalibrieren Sie den Geschwindigkeitssensor mit einem Quarzkristalloscillator und ersetzen Sie die Sonde, wenn die Abweichung über ± 5% liegt.

Jährliche Reparatur: Abbau der Rotationsanbindung, Reinigung von Oxiden und Aktualisierung der wärmeleitenden Siliziumschicht (Dicke 0,2 mm).

Dies sind die Kernpunkte eines Doppelwinkelverdampfungssystems. Die strikte Einhaltung dieser technischen Regeln ermöglicht es Ihnen, die Leistungsvorteile der Geräte voll auszuschöpfen und den Fortschritt des Herstellungsprozesses von optischen Komponenten zu fördern.