Nach den 1960er Jahren wurde die CVD-Methode nicht nur auf spezielle Verbundstoffe, Atomreaktormaterialien, Werkzeuge, Wärmebeständige und korrosionsbeständige Beschichtungen in der Raumfahrtindustrie angewendet, sondern auch auf dem Gebiet der Halbleiterindustrie angewendet, obwohl es relativ spät ist, aber heute als Technologie der massiven integrierten Schaltkreise und der Dünnfilmvorbereitung von Eisen- und Elektromaterialien, Isoliermaterialien und Magnetmaterialien ist *. CVD-Methode zur Vorbereitung von Film-Materialien ist in den letzten Jahren ein erfolgreicher Prozess für Halbleiter, Massenkreisanwendungen, hauptsächlich für das Wachstum von Silizium, Gallium-Arsenid-Materialien, Metall-Film-Materialien, Oberflächen-Isolationsschichten, Härteschichten usw., für einige wie Oxide, Karbide, Diamanten und diamantähnliche funktionelle Filme und ultraharte Filme, auch für die Synthese von Pulver, Blockmaterial, Fasern usw. und wird zu einer wichtigen Methode der Materialsynthese in vielen Industriebereichen wie Elektronik, Maschinen und anderen.

Heute früh am Morgen sind unsere zusätzlichen After-Sales-Ingenieure zur Schule gegangen, um den Lehrer zu helfen, das CVD-System zu installieren.

Die Installation läuft sehr reibungslos

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Nach dem Verkauf von Kojing-Produkten in der Region Shanghai sind alle Lehrer willkommen!