Die Halbleiterindustrie basiert auf Halbleitermaterialien wie Silizium und umfasst Bereiche wie integrierte Schaltungen, optoelektrische Geräte und andere, von denen integrierte Schaltungen mehr als 80% ausmachen. Die Nachfrage nach ultrareinem Wasser in dieser Branche ist streng, die Wasserqualität beeinflusst direkt die Produktionsqualität und die Leistung, und die Überwachung des ultrareinen Wassers ist ein entscheidender Bestandteil.
Der aktuelle Standard für ultrareines Halbleiterwasser übertrifft die höchsten Anforderungen des nationalen Standards für elektronisches Wasser, die Kernindikatoren umfassen: Der Widerstand muss 18,2 Mega Euro (25 ° C) oder mehr erreichen, um einen äußerst niedrigen Ionengehalt zu gewährleisten; Der TOC (Total Organic Carbon) wird unter 0,5 ppb gesteuert, um die Lichtgraviergenauigkeit zu vermeiden. nicht mehr als 100 Partikel pro Liter mit einer Größe von mehr als 0,05 Mikron; Der gelöste Sauerstoff muss weniger als 1 ppb sein, um die Oxidation von Metallionen zu verhindern.
Ultrareines Wasser wird in den gesamten Produktionsprozessen wie Wafer-Spülen, Lithographie, Gravurkühlung und mechanisches Polieren verwendet. Es wird auch für die Kühlung von Geräten und die Forschung und Entwicklung im Labor verwendet. Bei der Überwachungsmethode werden Mikropartikel mit einem Flüssigkeitspartikelzähler erkannt, TOC、 Widerstandsraten, gelöster Sauerstoff usw. werden durch Online-elektrochemische Instrumente in Echtzeit überwacht und in Kombination mit integrierten Systemen dynamisches Wasserqualitätsmanagement erreicht.
Der Überwachungszyklus ist abhängig von Produktionsbedarf und Wasserqualitätsänderungen und erfordert regelmäßige Probenanalysen. Ultrareines Wasser wird von Leitungswasser durch ACF, UF, RO, EDI usw. mehrstufig behandelt und mit einer TOC-UV-Lampe auf weniger als 1 ppb reduziert.
Durch die Verkürzung der Größe der Halbleiterkomponenten und die Steigerung der Genauigkeit steigen die Wasserqualitätsanforderungen kontinuierlich. Die Industrie bewältigt anspruchsvollere Herausforderungen durch die Verbesserung der Prüfgenauigkeit und die Anwendung neuer Technologien wie der Fernüberwachung, um den Produktionsverlust aufgrund von Wasserqualitätsproblemen zu reduzieren und die Produktleistung zu gewährleisten.