Silizium-Ultraschallreiniger ist eine industrielle Ausrüstung für die Beseitigung von Silizium-Oberflächenverschmutzungen bei der Halbleiterherstellung und der Photovoltaikzellenproduktion. Seine Hauptfunktion ist die Entfernung von Schadstoffen wie organischen Stoffen, Partikeln, Metallverunreinigungen und Oxidschichten auf der Siliziumoberfläche durch Ultraschalltechnologie, während die Oberflächeneigenschaften des Chips unbeschädigt bleiben.
Die Silizium-Ultraschallwaschmaschine nutzt die Druckschwankungen, die durch Ultraschall entstehen, wenn sie sich in der Flüssigkeit ausbreiten, um kleine Blasen zu bilden und bei einem sofortigen Zusammenbruch starke Schlagkraft freizugeben, um Schmutz von der Silizium-Oberfläche zu entfernen. Geeignet für Siliziumfliechen mit komplexen Geometrien.
Silizium-Ultraschallreiniger wird weit verbreitet für die Entfernung von Oberflächenschutzmitteln von Silizium-Wafer und verwandten Gefäßen im Halbleiterherstellungsprozess verwendet und eignet sich für die Reinigungsanforderungen vor der Diffusion, nach der Lithographie und vor der Oxidation. Bei der Herstellung von Photovoltaik-Zellen wird das Gerät mit seiner Mikron-Reinigungsgenauigkeit und intelligenter Prozesssteuerung zu einer Schlüsselausrüstung für die Herstellung von Siliziumflatten, die die Schnittschädigungsschichten, Mikron-Verunreinigungen und organische Verschmutzung effektiv entfernen kann.
Das Arbeitsprinzip der Siliziumplatten-Ultraschallreiniger hängt hauptsächlich vom Ultraschallkavitationseffekt ab. Wenn der Ultraschallgenerator eine hohe Frequenz erzeugt, expandieren und brechen die Blasen in der Reinigungsflüssigkeit schnell, ein Prozess, der sofortige hohe Temperatur- und Hochdruckstoßwellen erzeugt, die die Schadstoffe von der Siliziumoberfläche entfernen. Insbesondere erzeugt der Ultraschallkavitationseffekt Millionen winziger Blasen in der Reinigungsflüssigkeit, die beim Bruch eine große Energie freisetzen und Partikel, verbleibende Photogravierungen oder Oxidschichten effektiv von der Siliziumoberfläche entfernen.
Das Kernprinzip der Siliziumschallreiniger basiert auf der Ultraschallkavitationswirkung:
Der Ultraschallgenerator erzeugt hochfrequente elektrische Signale (Frequenzbereich in der Regel 20kHz-120kHz), die durch den Transformer in mechanische Vibrationen umgewandelt werden und unzählige kleine Blasen in der Reinigungsflüssigkeit bilden.
Blasen expandieren schnell und brechen unter Schalldruck, erzeugen lokale hohe Temperaturen (ca. 5.000 K) und hohen Druck (ca. 1.000 atm) und bilden Stoßwellen, die organische Stoffe, Partikel, Metallunreinigkeiten und natürliche Oxidschichten von der Siliziumboberfläche entfernen.
Hochfrequenz-Ultraschall (über 40 kHz) eignet sich für die Reinigung von Schmutz mit kleinen Partikeln, um Schäden an der Siliziumoberfläche zu vermeiden; Der niederfrequente Ultraschall (20-40 kHz) eignet sich besser für die Entfernung hartnäckiger Schadstoffe.