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PerkinElmer Enterprise Management (Shanghai) Co., Ltd
Perkin Elmer präsentiert den zweiten „Seminar zur Mess- und Prüftechnik von Halbleitermaterialien und -geräten“
Datum:2025-10-31Lesen Sie:1
Neuigkeiten
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vom 28. bis 30. Oktober 2025Institut für Silikate in Shanghai, chinesische Akademie der WissenschaftenVeranstaltetZweite „Schulung zur Mess- und Prüftechnik von Halbleitermaterialien und -geräten“Erfolgreich in Shanghai durchgeführt. Als weltweit führender Anbieter von Analyseinrichtungen und -lösungenPerkin Elmer wird zur Ausstellung eingeladen und präsentiertVollständige DarstellungIm Bereich der HalbleitermaterialienprüfungSpitzentechnologie und Lokalisierung.
Konferenzhintergrund
HalbleiterTechnologieintensive Industrie, komplexe Prozesse, die Hunderte von Präzisionsprozessen umfassen. Mit der kontinuierlichen Miniaturisierung der Prozesse wächst auch die Materialreinheit, die Fertigungspräzision und die Qualitätskontrolle exponentiell. Um den Aufbau hochqualifizierter Talente zu stärken und das Verständnis und die Anwendungsfähigkeit der wissenschaftlichen Forscher für fortgeschrittene Analysetechnologien zu verbessern, versammelt sich dieser Schulungskurs86 Fachleute aus Forschungsinstituten, Hochschulen und UnternehmensbereichenRund um.Hotspot-Richtungen für Photoelektrische Materialien, Halbleitermaterialien der dritten Generation, Sensoren und MEMS, Zuverlässigkeitsprüfung, Fehleranalyse, Fehlererkennung und MessungSystemische Schulungen durchführen.
Perkin Elmer macht tolles Debüt
Wir haben einen Fachstand vor Ort eingerichtet und präsentierten unsere vollständigen Prozessanalyse- und Prüflösungen für die Halbleiterindustrie, die folgende Bereiche umfassen:
Hochreine Materialreinheitsanalyse (ICP-MS)
Spurenelementeprüfung (AAS, ICP-OES)
Struktur und Zusammensetzung (UV, IR, TEA)
Analyse von organischen Schadstoffen und Chlorsilanen (GC/MS)
Viele wissenschaftliche Mitarbeiter werden zum Austausch angezogen, um die praktischen Herausforderungen der Anwendung in den Bereichen Vorläufer, Wafer, Verpackung und anderen zu erforschen.
Sprecher: Julie
?Perkin Elmer Leiter Technologie für Analyseinrichtungsanwendungen
Inhalt des Berichts
Berichtssystem vorgestelltAnwendung der ICP-MS-Technologie bei der Prüfung von Halbleitermetallbasierten MaterialienDie wichtigsten Herausforderungen der Analyse, wieMatrixeffekte, Massenspektrumstörungen und Stabilität der Instrumentanalyse über lange ZeitUm diese Herausforderungen zu bewältigen, erläutert er die entsprechenden Lösungsideen und Optimierungsmethoden wie die Technologie der Gasverdünnung im gesamten Matrix, die Wahl der Plasmabedingungen, die Parameter der universellen Pools zur Entstörung und die ausgezeichnete Leistung bei der Matrix-Toleranz und den Effekten der räumlichen Ladung durch den Einsatz der fortgeschrittenen Drei-Kegel-Großapertur-Schnittstelle und der Vierpol-Ionendeflection-Technologie.
Schließlich betonte er,Technische InnovationenundQualitätskontrolle des gesamten ProzessesHalbleitermaterialien zurHöhere Reinheit und KonsistenzDer Schlüssel,Perkin Elmer wird sich auf umfassende professionelle Servicekapazitäten und Shanghai Zhangjiang Halbleiterreinraum verlassen，Kontinuierliche Entwicklung der analytischen TechnologieSolide technische Unterstützung für Branchenfortschritte und Kunden.
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