Der Kunde ist ein Instrumentausrüstungsunternehmen mit Sitz im High-Tech-Park Nanshan in Shenzhen, mit einem Kernteam der Chinese Academy of Sciences, das sich der Bereitstellung von Agile + Lean-Vorbereitungs-, Mess- und Steuergeräten für die Oberflächenbehandlung von Materialien und Vakuumfilme widmet. Der Kunde möchte den gekauften FR-ES-Membrandickenmesser für die Sekundärentwicklung nutzen, um den Anwendungsbereich zu erweitern.
FR-ES Membrandickenmesser verwendet die Messung von sichtbaren Lichtinterferenzen im Wellenlängenbereich von 370-1020nm, kann die Membrandicke im Bereich von 12nm-100um messen, Genauigkeit von bis zu 0,1% oder 1nm, Genauigkeit von 0,05nm, ist ein kostengünstiges Membrandickenmessgerät.