Online-Wafer-TrocknerMit Hilfe der superkritischen Technologie ist eine Substanz in einem superkritischen Zustand weder Gas noch Flüssigkeit, sondern die Diffusionsfähigkeit eines Gases und die Löslichkeit einer Flüssigkeit. Diese Eigenschaft ermöglicht es superkritischen Flüssigkeiten, effizient in die winzigen Poren der Wafer-Oberfläche einzudringen und die verbleibende Feuchtigkeit oder Reinigungsflüssigkeit zu entfernen, wodurch eine schnelle Trocknung erreicht wird.

　　Online-Wafer-TrocknerWird hauptsächlich im Wafer-Trocknungsprozess bei der Halbleiterherstellung angewendet. Nachdem der Wafer gereinigt wurde, wird die Oberfläche eine Menge Wasser oder Reinigungsflüssigkeit Rückstände hinterlassen, in diesen Rückständen sind Verunreinigungen gelöst, wenn diese Rückstände selbst verdampfen und trocknen lassen, werden Verunreinigungen wieder an der Wafer-Oberfläche haften und Verschmutzung verursachen. Daher ist eine Trocknungsbehandlung der Wafer-Oberfläche mit einem Online-Wafer-Trockner erforderlich, um diese Restflüssigkeiten zu entfernen und die Wafer-Qualität zu gewährleisten.

Eigenschaften:

Hohe Zuverlässigkeit: Die robuste Konstruktion und die stabile Betriebsleistung sorgen für Konsistenz und Zuverlässigkeit bei langem Gebrauch und reduzieren die Wartungsfrequenz.

Effiziente Automatisierung: Ein speziell für den Wafer-Trocknungsprozess konzipiertes Aufladen und Abladen-Mechanismus erfüllt die Automatisierungsanforderungen fortschrittlicher Linienanlagen und erhöht die Produktivität.

Anpassung an die ultrareine Umgebung: geeignet für die ultrareine Umgebung der Wafer-Produktion, um sicherzustellen, dass keine Verschmutzung während des Trocknungsprozesses eingeführt wird, um die Wafer-Qualität zu gewährleisten.