Geräteinführung

Scan-Elektronenmikroskop + Elektronenstrahlbelichtung

Das ZEISS sigma300 Scannelektroskop ist für die Beobachtung der Oberflächenstruktur von leitfähigen Materialien auf Mikron- und Submikronenebene vielfältig eingesetzt. Die Kondensationsrichtung wird hauptsächlich verwendet, um die Ergebnisse von hergestellten Mikroschaltungen, Wellenleitungen und anderen Materialien zu überprüfen.

Das Scanelektroskop ist mit der Raith-Elektronenstrahlbelichtungssoftware ausgestattet und ermöglicht das Design und die Belichtung von dimensionalen Schaltungen mit einem maximalen Schreibfeld von 1000um und einer höchsten Genauigkeit von 100nm.

Leistungsindikatoren: Auflösung: 20nm-10kV, Beschleunigungsspannung: 100V-30kV, Vergrößerungsmethode: 50-500K, Detektor: Sekundäre Elektronendetektor SE2, Inlens-Detektor und Infrarot-CCD-Kamera.

Hauptanwendung: Geeignet für die Beobachtung der Oberflächenformation von leitfähigen und nicht-leitfähigen Materialien, um ein sekundäres Elektronisches Bild der Oberflächenformation zu erhalten.

Probenanforderungen: feste nicht-pulvertrocknete Probe, saubere Probenoberfläche, keine Ölverschmutzung, keine Magnetisierung und nicht leicht magnetisierbar, die Probe darf kein Eisen (Fe), Kobalt (Co), Nickel (Ni) enthalten. Höhe kleiner als 20mm, Durchmesser kleiner als 50mm. Poröse oder feuchtig auflösende Proben, bitte im Voraus mit Vakuumtrocknung behandeln. Die Probe muss elektrisch leitfähig sein. Wenn die Probe nicht leitfähig ist, muss eine Leitfolie wie Vergoldet, Kohlenstoff und andere behandelt werden.

Hinweis: Der Artikel wurde auf der Ankündigungsplattform der Fakultät für Physik und Astronomie der Shanghai Jiaotong University wiedergegeben《Scan-Elektronenmikroskop & Elektronenstrahlbelichtung»